為了確保電子信息安全，我們?cè)诮ㄔO(shè)電磁屏蔽室時(shí)提高其屏蔽效果是非常有必要的，由于所選用的建設(shè)材料會(huì)直接影響屏蔽效果，因此用戶要根據(jù)建設(shè)標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行合理的選擇。下面小編就給大伙兒說說電磁屏蔽室所選材料與屏蔽效果之間的關(guān)系，以便為有需要的用戶提供參考依據(jù)。

1、屏蔽材料的導(dǎo)電性和導(dǎo)磁性越好，其屏蔽的效能就越高。但實(shí)際的金屬材料不可能兼顧這兩個(gè)方面，例如銅的導(dǎo)電性很好，但是導(dǎo)磁性很差；鐵的導(dǎo)磁性很好，但是導(dǎo)電性較差。應(yīng)該使用什么材料，根據(jù)具體屏蔽主要依賴反射損耗、還是吸收損耗來決定是側(cè)重導(dǎo)電性還是導(dǎo)磁性；

2、建造屏蔽室時(shí)提高反射的損耗。頻率較低的時(shí)候，吸收損耗很小，反射損耗是屏蔽效能的主要機(jī)理，要盡量提高反射損耗；

3、屏蔽室材料應(yīng)當(dāng)選擇磁導(dǎo)率較高的材料。反射損耗與輻射源的特性有關(guān)，對(duì)于電場(chǎng)輻射源，反射損耗很大；對(duì)于磁場(chǎng)輻射源，反射損耗很小。因此，對(duì)于磁場(chǎng)輻射源的屏蔽主要依靠材料的吸收損耗，應(yīng)該選用磁導(dǎo)率較高的材料做屏蔽材料。

4、屏蔽材料與輻射源的距離。反射損耗與屏蔽體到輻射源的距離有關(guān)，對(duì)于電場(chǎng)輻射源，距離越近，則反射損耗越大；對(duì)于磁場(chǎng)輻射源，距離越近，則反射損耗越小；正確判斷輻射源的性質(zhì)，決定它應(yīng)該靠近屏蔽體，還是原理屏蔽體，是結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)的一個(gè)重要內(nèi)容。

5、采用高導(dǎo)電性材料和高導(dǎo)磁性材料。電場(chǎng)波是最容易屏蔽的，平面波其次，磁場(chǎng)波是最難屏蔽的。尤其是（1KHz以下）低頻磁場(chǎng)，很難屏蔽。對(duì)于低頻磁場(chǎng)，要采用高導(dǎo)磁性材料，甚至采用高導(dǎo)電性材料和高導(dǎo)磁性材料復(fù)合起來的材料。

綜上所述，建設(shè)電磁屏蔽室所選擇的材料對(duì)屏蔽效果有著很大的影響，如果想要提高屏蔽效果，選對(duì)材料至關(guān)重要！